工学部 電気電子工学科

林啓治 研究室

HAYASHI KEIJI
LABORATORY

量子デバイスプロセス技術の革新や大規模集積化した高機能マイクロマシンの設計指針の確立

モバイル電子機器や医療用マイクロマシンの開発・性能向上には、ナノテクノロジーの進歩が欠かせない。研究室ではpost-CMOS世代と呼ばれる超LSIの開発などに貢献する「高品質中性フリーラジカルビーム」プロセス技術を研究。構成部品を微細化し、集積度を高めて高機能化を実現するマイクロマシンの技術開発にも取り組んでいる。

キーワード

  • ナノテクノロジー
  • 量子デバイス
  • 高品質中性フリーラジカルビーム

ニュース&トピックス

NEWS & TOPICS

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研究紹介

RESEARCH

高品質中性ラジカルビームを利用した新しいデバイスプロセス技術の開発

デバイスプロセス設計のための、第一原理に基づく量子論的アプローチの開発

デバイスプロセス設計のための、非熱平衡分子動力学シミュレーション法の開発

教員紹介

TEACHERS

林啓治  教授・博士(工学)

東京都広尾高校出身

略歴

東京大学基礎科学科卒。(株)日立製作所デバイス開発センター勤務を経て慶応義塾大学大学院理工学研究科修士課程(物理学)修了。東京工業大学大学院博士後期課程(物理情報工学)修了。1995年本学講師就任、助教授を経て、2005年現職。

専門分野

専門:量子素子集積化システムを造るデバイスプロセスの設計法
論文・著書:“A New Method for Generating a Refined Beam of Neutral Free Radicals”、ほか多数

横顔

熱平衡から遠い状況下で高度の機能を持つ、生き物のような物理システムを、人工的なミクロ素子から構築する設計法を確立することに興味を持ち、実験と計算機シミュレーションの両面から研究を進めています。

趣味

旅行、ジョギング

近況

東京生まれの東京育ち。人情味豊かな古都金沢に移り住んで、新しい出会いを楽しみにしています。

研究業績

RESEARCH RESULTS

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オリジナルコンテンツ

ORIGINAL CONTENTS

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