バイオ・化学部 環境・応用化学科
草野英二 研究室
薄膜物質化学の基礎を研究.世界でも有数のスパッタリング法に関する研究拠点.
薄膜は,現代社会を支える基盤材料です.この薄膜材料の形成法であるスパッタリング法に着目して,そのプロセスおよび堆積された薄膜の物性を科学的視点から研究しています.スパッタリング法の研究拠点としては世界でも有数と認められています.反応性スパッタリング法による化合物薄膜堆積およびそのプロセス解析,プラズマ複合化による薄膜構造制御などにおいて独自性の高い実績を挙げています.
キーワード
- スパッタリング
- 薄膜物性
- 太陽電池
- 光学薄膜
研究紹介
スパッタリング技術の開発と新機能薄膜材料の創製
研究内容
研究テーマとして以下を掲げています。・スパッタリングプロセスの研究・新機能性薄膜の作製とその物性の研究・薄膜作製技術と石川県における伝統工芸技術との融合 スパッタリングプロセスの研究としては、省エネルギー・安定化・薄膜物性の改善を目的としてプロセス解析から改善まで、広く研究をおこなっています。新規な薄膜の研究として有機高分子薄膜、さらに生体材料などへの応用に薄膜技術を展開していきます。伝統工芸技術との融合は多くの地域でテーマ化されておりますが、加賀にある大学として、加賀の伝統工芸技術に対して新しい提案をすることが1つの役割であると考えて、アイデアを絞っています。ガラス工芸との融合を実現しており、さらなる展開を進めています。
スパッタリング法による薄膜形成およびその物性評価
薄膜材料の機械的特性
教員紹介
草野英二 教授・博士(工学)
略歴
専門分野
専門:薄膜物性、スパッタリング法
担当科目
物理化学 バイオ・化学基礎実験・演習A1(応用化学) 地学基礎実験 プロジェクトデザインⅢ(草野英二研究室) バイオ・化学基礎実験・演習B1(応用化学) 物理学基礎実験 無機・エネルギー機能化学 専門ゼミ(応用化学科) 無機機能化学研究(草野英二) 応用化学統合特論 基礎無機・物理化学特論
研究業績
論文
- Revisitation of reactive direct current magnetron sputtering discharge: Investigation of Mg–CF4, Mg–O2, and Ti–O2 discharges by probe measurements
- Dependence of film structure on the film structure-independent equivalent film thickness in magnetron sputtering deposition of Ag thin films
- Growth of flat-topped, mound-shaped grains with voids when depositing silver thin films at high substrate temperatures using direct-current magnetron sputtering
- Discharge characteristics of electronegative Mg–CF4 direct current magnetron sputtering by probe measurements
- Structure-Zone Modeling of Sputter-Deposited Thin Films: A Brief Review
- Homologous substrate-temperature dependence of structure and properties of TiO
2 , ZrO2 , and HfO2 thin films deposited by reactive sputtering - Radio frequency sputter deposition of Cu
2 ZnSnS4 thin films with a temperature-controlled reflector wall: Effects of H2 addition to the sputtering gas - Revisitation of the structure zone model based on the investigation of the structure and properties of Ti, Zr, and Hf thin films deposited at 70-600 C using DC magnetron sputtering
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